Estándares de tamaño de partículas de sílice

En los laboratorios de metrología de semiconductores actuales, las herramientas de inspección de obleas utilizan láseres de alta potencia para escanear obleas de silicio de 200 mm y 300 mm y detectar partículas superficiales de hasta < 30 nanómetros. Al calibrar sistemas de escaneo láser de alta potencia, la calibración del tamaño es fundamental para detectar partículas a 30 nm y medirlas con precisión en todo el rango de tamaños. La calibración del tamaño con láseres de alta potencia y esferas de látex de poliestireno tradicionales puede resultar difícil, ya que la alta potencia del láser puede contraer las esferas de látex. La solución consiste en utilizar partículas de sílice como patrones de tamaño a 20 nm, 30 nm, 50 nm, 100 nm, 500 nm, 1 µm y 2 µm. La ventaja es que la sílice no se contrae bajo la alta potencia del láser, lo que proporciona un pico de tamaño preciso y constante para la calibración; además, las partículas de sílice tienen un índice de refracción muy similar al de las partículas de látex de poliestireno. Normas sobre la contaminación por sílice en obleas; Estándares de tamaño de partículas de sílice