Un estándar de oblea de contaminación es un estándar de oblea de partículas con trazabilidad NIST, que incluye un certificado de tamaño. Se deposita con nanopartículas de sílice monodispersas y un pico de tamaño estrecho entre 30 nm y 2.5 micras para calibrar las curvas de respuesta de tamaño de los sistemas de inspección de obleas KLA-Tencor Surfscan SP3, SP5 y SP5xp, así como de los sistemas SEM y TEM de Hitachi. El estándar de oblea de contaminación de sílice se deposita como una deposición completa con un único tamaño de partícula en toda la oblea, o bien como una deposición puntual con uno o más estándares de tamaño de partícula de sílice ubicados con precisión alrededor de la oblea. Los estándares de oblea de contaminación de sílice se utilizan para la calibración de tamaño de las herramientas KLA-Tencor Surfscan y de los sistemas SEM y TEM de Hitachi.
A continuación se muestran los tamaños típicos de sílice que los clientes solicitan para depositar en obleas estándar de contaminación de 75 mm a 300 mm. Applied Physics Puede producir cualquier pico de sílice de tamaño comprendido entre 30 nm y 2500 nm que necesite, y depositar varias capas puntuales de sílice alrededor de la superficie principal de la oblea de silicio.
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Un estándar de oblea de contaminación se puede depositar como una deposición completa o una deposición puntual en una oblea de silicio de primera calidad con un pico de tamaño estrecho de estándares de tamaño de partícula. Los estándares de oblea de partículas de 30 nanómetros a 2.5 µm se pueden proporcionar con 1 o más deposiciones puntuales alrededor de la oblea con un recuento de partículas controlado entre 1000 y 2500 por tamaño depositado. También se proporciona una deposición completa en toda la oblea con recuentos de partículas que van desde 5000 a 10000 partículas en toda la oblea. Los estándares de oblea de contaminación de sílice se utilizan para calibrar la respuesta de precisión de tamaño de los sistemas de inspección de superficie de escaneo (SSIS) que utilizan láseres de alta potencia, como KLA-Tencor SP2, SP3, SP5, SP5xp y herramientas de inspección de obleas de Hitachi. Un estándar de oblea de contaminación se deposita con nanopartículas de sílice para calibrar las curvas de respuesta de tamaño de los sistemas de inspección de obleas que utilizan láseres de escaneo de alta potencia, como KLA-Tencor SP5 y SPx. Las partículas de sílice son más resistentes que las esferas de PSL con respecto a la energía láser. La intensidad láser de los sistemas de inspección por escaneo de superficie, como Surfscan SP1 y Surfscan SP2, utiliza láseres de menor potencia que las herramientas más recientes KLA-Tencor Surfscan SP3, SP5 y SPx, así como los sistemas de inspección de obleas con patrones de Hitachi. Todos estos sistemas de inspección de obleas utilizan estándares de obleas contaminadas depositadas con esferas de PSL o partículas de SiO2 para calibrar las curvas de respuesta de tamaño de dichos sistemas. Sin embargo, a medida que ha aumentado la potencia del láser, se ha observado que las partículas esféricas de látex de poliestireno se contraen bajo alta intensidad láser, lo que resulta en una respuesta de tamaño láser cada vez menor con escaneos láser repetidos del estándar de tamaño de oblea de PSL. Las partículas de SiO2 y las esferas de PSL tienen un índice de refracción muy similar. Cuando ambos tipos de partículas se depositan en una oblea de silicio de primera calidad y se escanean con una herramienta de inspección de obleas, la respuesta de tamaño láser de la sílice y las esferas de PSL es similar. Debido a que las nanopartículas de sílice pueden soportar mayor energía láser, la contracción no representa un problema con el nivel actual de potencia láser utilizado en las herramientas KLA-Tencor SP3, SP5 y SPx Surfscan. Como resultado, los estándares de oblea de contaminación que utilizan sílice pueden emplearse para producir una curva de respuesta de tamaño de partícula real, muy similar a la de las esferas PSL. Por lo tanto, la calibración de la respuesta del tamaño de partícula utilizando partículas de sílice permite la transición de los estándares de oblea de contaminación PSL (para los sistemas de inspección de obleas SSIS más antiguos y de menor potencia) a un estándar de oblea de contaminación que utiliza nanopartículas de sílice para las herramientas SSIS de mayor potencia. Los estándares de oblea de contaminación depositados con un diámetro de 100 nanómetros o superior se escanean con un KLA-Tencor Surfscan SP1. Los estándares de oblea con un diámetro de partícula inferior a 100 nm se escanean con un KLA-Tencor Surfscan SP5 y SP5xp.
Oblea estándar de contaminación, deposición puntual, microesferas de sílice de 100 nm y 0.1 micras.
Los estándares de obleas para la detección de contaminación se proporcionan en dos tipos de deposición: deposición completa o deposición puntual, como se muestra arriba.
Las partículas de sílice de 100 nm se depositan mediante dos puntos de deposición en la parte superior.
Los responsables de metrología en la industria de semiconductores utilizan estándares de obleas contaminadas para calibrar la precisión de tamaño de las herramientas SSIS. Pueden especificar el tamaño de la oblea, el tipo de deposición (SPOT o FULL), el número de partículas deseado y el tamaño de partícula a depositar. El número de partículas suele ser de 5000 a 25000 en obleas de deposición completa de 200 mm y 300 mm; mientras que las deposiciones SPOT suelen ser de 1000 a 2500 por tamaño depositado. El estándar de oblea contaminada se puede producir como una deposición FULL con tamaños que van desde 50 nm hasta 5 micras. También está disponible la deposición SPOT simple y la deposición multi-SPOT desde 50 nm hasta 2 micras. Las obleas de deposición Spot tienen la ventaja de depositar uno o más tamaños de partículas en la oblea de silicio principal, rodeada por una superficie de oblea de silicio limpia. Al depositar partículas de diferentes tamaños en una sola oblea, es ventajoso probar la herramienta de inspección de obleas en un amplio rango dinámico de tamaños durante un único escaneo y calibración de tamaño de la herramienta. Los estándares de oblea de contaminación de deposición completa tienen la ventaja de calibrar el SSIS en un solo tamaño de partícula, a la vez que se prueba el SSIS para una verificación de escaneo uniforme en toda la oblea en un solo escaneo. Los estándares de oblea de calibración se empaquetan en portadores de oblea individuales y normalmente se envían los lunes o martes para que lleguen antes del final de la semana. Se utilizan obleas de silicio prime de 100 mm, 125 mm, 150 mm, 200 mm, 300 mm y 450 mm. Los estándares de oblea de contaminación de 150 mm o menos se escanean con un Tencor 6200, mientras que los de 200 mm y 300 mm se escanean con un SP1 Surfscan. Se proporciona un certificado de tamaño del estándar de oblea de contaminación con referencia a los estándares trazables del NIST. También se pueden depositar obleas con patrones y películas, así como fotomáscaras en blanco, para crear obleas estándar de control de contaminación.
Estándar de oblea de contaminación: 200 mm, profundidad total, 1.112 micras
Oblea estándar de contaminación, estándar de calibración de partículas – 300 mm, DEPOSICIÓN COMPLETA, 102 nm
Oblea estándar de contaminación, 300 mm, DEPOSICIÓN MULTIPUNTO: 125 nm, 147 nm, 204 nm, 304 nm, 350 nm
Oblea estándar de contaminación con deposición puntual:
Applied Physics Puede producir cualquier pico de sílice de tamaño entre 30 nm y 2500 nm que necesite y depositar varias deposiciones puntuales de sílice alrededor de la superficie de la oblea de silicio principal. Estándar de oblea de contaminación: solicite un presupuesto.
