Esferas de PSL Surf-Cal, premezcladas, calibración de tamaño SSIS

Esferas de PSL, látex de poliestireno, estándares de tamaño de partícula Surf-Cal

Las esferas de PSL SURF-CAL simplifican el trabajo de preparación de obleas de calibración en sus instalaciones al proporcionar esferas de PSL premezcladas en una botella 50ml. Los tamaños de partícula corresponden a los tamaños de punto de calibración requeridos por los fabricantes de instrumentos. Las concentraciones de partículas son partículas 1 x 10 e10 por ml. Los fabricantes de SEMI han exigido el uso de tamaños de partículas específicos al calibrar los sistemas de inspección de superficie de escaneo, también referidos a herramientas de inspección de obleas. Al trabajar con los fabricantes de instrumentos, las esferas SURF-CAL PSL cumplen con los estándares SEMI M52 (3) y M53. Los tamaños disponibles son nodos de dimensionamiento crítico según lo define la Hoja de ruta internacional de tecnología para semiconductores, ITRS (1).

Al depositar esferas SURF-CAL, PSL (látex de poliestireno) rastreables en silicio desnudo y obleas de patrón, puede realizar verificaciones periódicas de calibración de tamaño en sus herramientas KLA-Tencor, Hitachi, ADE, Topcon SSIS y comparar su escáner de inspección de obleas con escáneres en otros lugares También puede evaluar el rendimiento de su SSIS en las etapas críticas del proceso de fabricación.

Todos los productos se suspenden en agua desionizada y filtrada (agua DI) en botellas 50 mL a una concentración de partículas 3 x1010 por mL. Estas esferas de PSL han sido dimensionadas por el analizador de movilidad diferencial (DMA) u otras técnicas de exclusión por tamaño.

Metodología de Medida:

Para garantizar la trazabilidad del NIST, los diámetros certificados de estos productos se transfirieron mediante microscopía óptica o electrónica de transmisión a partir de materiales de referencia estándar del NIST (2). La incertidumbre se calculó utilizando la Nota técnica 1297 del NIST, edición de 1994 “Directrices para evaluar y expresar la incertidumbre de los resultados de las mediciones del NIST” (4). La incertidumbre enumerada es la incertidumbre expandida con un factor de cobertura de dos (K = 2). El diámetro del pico se calculó usando aproximadamente el rango de ± 2 s de la distribución del tamaño de partícula. La distribución de tamaño se calculó como la desviación estándar (SDS) de todo el pico. El coeficiente de variación (CV) es una desviación estándar expresada como porcentaje del diámetro del pico. La distribución FWHM (ancho completo a la mitad del máximo) se calculó como la distribución a la mitad de la altura del pico expresada como porcentaje del diámetro del pico.

1. "Hoja de ruta tecnológica nacional para semiconductores", Semiconductor Industry Association (1999)

2. SD Duke y EB Layendecker, "Método estándar interno para la calibración del tamaño de partículas esféricas submicrónicas mediante microscopía electrónica", Fine Particle Society (1988)

3 SEMI M52 - Guía para especificar sistemas de inspección de superficie para obleas de silicio de la generación de tecnología 130 nm.

4. Barry N. Taylor y Chris E. Kuyatt, "Directrices para evaluar y expresar la incertidumbre de los resultados de las mediciones del NIST". Nota técnica NIST 1297, edición de 1994, septiembre de 1994.

 

Composición de partículas Poliestireno Látex, Esferas PSL
Concentración 3 x 10 10 partículas por ml
Densidad de particula 1.05 g / cm³
Índice de refracción 1.59 @ 589nm (25 ° C)
Volumen de relleno 50 ml
Contenido Microesferas de poliestireno en agua desionizada y filtrada
Fecha de caducidad ≤ 12 meses

SOLICITUD
una cita

 

Esferas de PSL, estándares de tamaño de partícula SURF-CAL
Producto Parte # Diámetro pico certificado Desviación Estándar CV y FWHM Partículas por mL
AP PD-047B   47 nm 4 nm 7.5%, 17.4% 1 x 10 e10
AP PD-064B   64 nm 3 nm 5.4%, 10.9% 1 x 10 e10
AP PD-070B   72 nm 5 nm 7.2%, 16.2% 1 x 10 e10
AP PD-080B   80 nm 6 nm 7.0%, 12.8% 1 x 10 e10
AP PD-083B   83 nm 4 nm 4.2%. 9.6% 1 x 10 e10
AP PD-090B   89 nm 5 nm 5.7%, 9.6% 1 x 10 e10
AP PD-092B   92 nm 4 nm 4.6%, 9.1% 1 x 10 e10
AP PD-100B   100 nm 3 nm 2.6%, 5.2% 1 x 10 e10
AP PD-110B   114 nm 4 nm 3.3%, 6.3% 1 x 10 e10
AP PD-125B   126 nm 3 nm 2.4%, 4.8% 1 x 10 e10
AP PD-155B   155 nm  3 nm 1.6%, 3.7% 1 x 10 e10
AP PD-180B   184 nm 4 nm 2.2%, 3.9% 1 x 10 e10
AP PD-200B   202 nm 4 nm 1.8%, 4.0% 1 x 10 e10
AP PD-204B   204 nm 4 nm 1.8%, 3.7% 1 x 10 e10
AP PD-215B  220 nm 3 nm 1.6%, 3.3% 1 x 10 e10
AP PD-305B   304 nm 4 nm 1.4%, 3.4% 1 x 10 e10
AP PD-365B   360 nm 5 nm 1.3%, 2.8% 1 x 10 e10
AP PD-500B   498 nm 10 nm 2.0%, 5.0% 1 x 10 e10
AP PD-800B   809 nm 6 nm 0.8%, 1.8% 1 x 10 e10
AP PD-802B   802 nm 9 nm 1.1%, 2.4% 1 x 10 e10
AP PD-1100B   1.112 micras 11 nm 1.0%, 2.5% 1 x 10 e10